派瑞林真空氣相沉積 參考價：面議
派瑞林真空氣相沉積是一種專業(yè)的產(chǎn)品，用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環(huán)境中使用氣相化學(xué)反應(yīng)來沉積薄膜的過程。這種技術(shù)可以廣泛應(yīng)用于各種行業(yè)，包括電子、光...
1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫...
全自動CVD滑軌爐 參考價：面議
全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)子流量計(jì)能夠準(zhǔn)確控制系統(tǒng)的供氣；全自動C...
1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管式爐可以在加熱區(qū)內(nèi)...
1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進(jìn)出料CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進(jìn)出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進(jìn)出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速率將粉料送入爐管，可實(shí)現(xiàn)在氣氛保護(hù)的環(huán)境...
兩通道CVD系統(tǒng) 參考價：面議
本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計(jì)并配有雙極旋片泵、水冷機(jī)、數(shù)字真空計(jì)且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實(shí)驗(yàn)。
1200℃三通道CVD系統(tǒng) 參考價：面議
該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實(shí)驗(yàn)和各種科研要求。該CVD系統(tǒng)是材料制備過程中的理想之...
三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng) 參考價：面議
該三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng)主要用于真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)性燒結(jié)、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實(shí)驗(yàn)
1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計(jì)組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管式爐可以在...
ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
原子層沉積（ALD）系統(tǒng)是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設(shè)備，具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體制造、納米技術(shù)、光電器件、以及其他高科技領(lǐng)...
雙溫區(qū)CVD系統(tǒng) 參考價：面議
雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)由1200℃雙溫區(qū)管式爐、雙通道質(zhì)量流量計(jì)和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)管式爐的兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫...
1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度...
1200℃三路供氣低真空度旋轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃三路供氣低真空度旋轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為風(fēng)冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可調(diào)。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫...
1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫...
1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng) 參考價：面議
1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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